![模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/808/47378808/b_47378808.jpg)
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2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739398687-nPqfqTdDac67jaYIjuXvEtyHG6JKUz0A-0-bb94bf451715dabc9fecb7cf0d334870)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739398687-C1rxIbzhoaLJ86WgR1IKIj6R4cWbDAXz-0-6589a539f20f16786d586856596acfce)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739398687-tjrdWjWow7La5jHsNC5FSjfgjbPoxRF9-0-7b885cac75a9ebc172339e075885bb07)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739398687-40zNbZTGDwjL08rQyPwUk4bQaXzlZZ4j-0-30f0bdc35500502040f4d8468888b206)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739398687-HJnvFBQ99kZ4yrfgKwfshc7KX7z6rZpD-0-652eb973b74cc908f9e5ae11c7a26d68)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739398687-pElO3Q9ESFfntO0o3c2qRhIyibGxtS8Z-0-019a0bdd33b9cf96c5d082847897f4b4)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739398687-7Eb2o7W4t6UF0MdfGnzgHTTZdR3hjrOV-0-7e8b03e81e30f500888fd1ff6de641c6)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739398687-bhDMSt5LuXJIvyoTA6n4C3bKuiZzkIC3-0-8dd21bdf9dff594dd2b17974425e2494)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。